长期以来，我国的光刻技术落后于先进国家，近年来，在国家政策的扶持下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，本文北京研精毕智信息咨询有限公司对中国光刻机发展现状进行了分析。

1、行业政策

2016年8月国务院印发《“十三五”国家科技创新规划》，提出攻克14nm刻蚀设备、薄膜设备、掺杂设备等高端制造装备及零部件，突破28nm沉没式光刻机及核心部件，研发14nm逻辑与存储芯片成套工艺相应系统封测技术，形成28-14nm装备、材料、工艺、封测等较完整的产业链。

2017年科技部发布《国家高新技术产业开发区“十三五”规划建议》，优化产业结构，推进集成电路及专用装备关键核心技术突破和应用。

2、市场规模

近年来，中国光刻机有着较大的进步。2019年我国光刻机市场规模就已超过200亿元，占据全球市场的20%以上。随着国内光刻机制造商的成长和崛起，2021年我国光刻机市场规模达到了300亿元以上，上海微电子等企业生产的光刻机在全球具有着一定的市场占有率。

3、进口情况

在光刻机进口贸易方面，2017-2020年我国光刻机进口数量和进口金额呈现先降低后上升趋势。2020年，我国进口光刻机数量约240台，进口金额为19亿美元左右；2021年进口数量和进口金额分别约为250台和21亿美元。

4、出口情况

从光刻机出口贸易方面看，2017-2020年我国光刻机出口数量和出口金额呈现先上升后下降的趋势。2020年我国光刻机出口数量约40台，出口金额约9550万美元；2021年出口数量和金额分别下降到20台、1650万美元。

从出口企业注册地看，我国出口的光刻机大部分由上海企业出口，主要是因为上海地区分布着我国光刻机的领先企业——上海微电子和芯源微。其次是江苏、安徽、山东和浙江地区。

5、下游分析

光刻机下游主要为半导体行业，整体需求受半导体产业影响较大。随着全球和中国半导体市场规模扩张，光刻胶需求保持稳步增长。据北京研精毕智团队的数据小时，2021年中国集成电路销售额超过1万亿元，同比增长18%以上。

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